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●直觀全面及實(shí)踐性：直觀展示典型集成電路器件的制造工藝流程，實(shí)驗(yàn)箱液晶顯示屏模擬真實(shí)工藝設(shè)備的參數(shù)設(shè)定，增強(qiáng)工藝教學(xué)的實(shí)踐性。
●與時(shí)俱進(jìn)及可拓展性：產(chǎn)品包含當(dāng)前最新器件的制造工藝流程（如 FinFET、SOI 等），預(yù)留 1 個(gè)定制按鍵用于用戶特殊器件工藝的定制需求，集成電路工藝模擬器可以根據(jù)行業(yè)工藝技術(shù)的發(fā)展進(jìn)行同步更新。
當(dāng)前我國最先進(jìn)的集成電路量產(chǎn)工藝已經(jīng)進(jìn)入到14nm，以EUV光刻機(jī)為代表的工藝制造設(shè)備價(jià)格極其昂貴，高校很難采購這類設(shè)備用于教學(xué)，同時(shí)，新手操作容易損壞，又有一定的危險(xiǎn)性，使得高校集成電路工藝教育與真實(shí)工藝線人才需求脫節(jié)。為此，我們研發(fā)了14nm集成電路工藝套件。
該套件包含如下內(nèi)容
1. 完整的14nm工藝線虛擬制造設(shè)備操作：氧化爐、CVD設(shè)備、PVD設(shè)備、刻蝕機(jī)、離子注入機(jī)、退火設(shè)備、外延設(shè)備。
2. 完整的14nm工藝線虛擬制造步驟及晶圓微觀結(jié)構(gòu)、參數(shù)特性、電學(xué)特性等：氧化、淀積、光刻、刻蝕、離子注入、擴(kuò)散、退火、外延。
3. 完成的14nm工藝線典型器件制造步驟及器件微觀結(jié)構(gòu)、參數(shù)特性、電學(xué)特性等：14nm FinFET；GaAs；LDMOS；MOSFET；BJT；DIODE；RESISTOR。
4. 完善的工業(yè)級(jí)集成電路版圖設(shè)計(jì)，包含基本器件單元和電路的版圖設(shè)計(jì)及GDSⅡ文件的導(dǎo)入和導(dǎo)出。
5. 7nm微納電子教學(xué)套件銜接，實(shí)現(xiàn)從工藝制造到器件測試完整過程。
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